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塚本 哲生*; 北條 喜一; 古野 茂実; 大津 仁; 出井 数彦*
真空, 35(4), p.431 - 437, 1992/00
本装置は、低エネルギーイオン照射装置と100kV電顕とを結合し、材料中でのガス原子の挙動を研究するために製作されたものである。この装置の特徴は高輝度・高安定なイオン銃と電顕内静電偏光プリズムとを開発し、電顕内試料上で約1A/m
という大電流照射を可能としたことである。ここでは、装置の設計と諸特性について示している。
鈴木 建次; 片野 吉男; 有賀 武夫; 白石 健介
JAERI-M 84-181, 37 Pages, 1984/10
エネルギーの高いイオンで照射した材料における照射損傷領域の組織観察法は材料の照射損傷を研究する上で有用な手段である。組織変化に及ぼす照射量の影響を解明するために、均質かつ時間的に安定なプロフィルを有するイオンビームが必要となる。2MVバンデグラフ加速器のセンターダクトにおけるイオンビームは上述の条件を比較的容易に満し得るけれども、装置の設置に対する許容空間は少ない。このため、大型装置と同様に排気、試料の加熱およびイオン電流密度の計測などができる小型イオン照射装置を製作し、得られる照射条件の検討を行った。その結果、本照射装置は材料の照射試験に充分使用できることがわかった。
